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GaAs衬底

优点: 1.砷化镓具有高迁移率,高饱合漂移速度 2.半绝缘砷化镓材料制成的器件寄生电容很小

关键词:

闪烁体 | 闪烁阵列 | 闪烁体探测器 | 单晶基板 | 声光传感器

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产品详细信息

描述

砷化镓(GaAs)是目前重要且成熟的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料之一,广泛应用于光电子和微电子领域。 
砷化镓材料主要分为两类:半绝缘砷化镓材料和半导体砷化镓材料。半绝缘砷化镓材料主要制作MESFET、HEMT 和 HBT 结构的集成电路。主要用于雷达、微波及毫米波通信、超高速计算机及光纤通信等领域。半导体砷化镓材料主要应用于半导体激光器(LD)、半导体发光二极管(LED)、近红外激光器、量子阱大功率激光器和高效太阳能电池。

性能参数

材料砷化镓(GaAs)
结构立方
熔点(℃)1238
生长方法LEC(液体封装提拉法), VGF(布里奇曼/坩埚下降法)
晶格常数(nm)0.5653
密度(g/cm3)5.26
莫氏硬度(Mho)4.5
折射率3.25
介电常数(300K)ε(┴)=12.4; ε(║)=10.6
热导率(W/cm.K)0.46
热膨胀系数(10-6/K)6.0
比热容J/g.K0.326
德拜温度(K)344
禁带宽度(eV)1.43
寿命(ns)10

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锆宸科技(上海)有限公司