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CsI(Tl)碘化铯晶体阵列

优点: 1.波长550nm,最佳匹配PD 2.余晖低 3.成本低 4.低能区亮度高

关键词:

闪烁体 | 闪烁阵列 | 闪烁体探测器 | 单晶基板 | 声光传感器

销售热线:

什么是App:

产品详细信息

CsI(Tl) 碘化铯晶体根据不同的掺杂激活对X射线和伽马射线有较强的探测效率,无解里面便于加工,可以广泛用于低能区安检设备,高能物理。辐射探测仪,空间物理,医用SPECT,以及其他的高校科研院所实验等等。 
根据不同的应用场景,我们可以提供提拉法工艺生长的碘化铯晶体,此工艺具有高光输出,均一性好,线性能量分辨率优6-7.5% Cs137@ 662Kev,以及低成本下降法工艺的晶体,对各种伽马计数,低能区安检成像具有高性价比的选择方案。

性能指标

密度(g/cm3)

4.51

熔点 (℃)

894

热膨胀系数(K-1) 

54 x 10-6

解里面

莫氏硬度 (Mho)

2

吸潮

轻微

最大发光波长 (nm)

550

最短波长 (nm)

320

折射率

1.79

衰减时间 (ns)

1000

余晖(after 30ms) (%)

0.5 - 0.8

光产额(photons/keV)

52- 56

光子 [% of NaI(Tl)] (y rays)

45

1.类型: 线阵和二维阵列                 
产品特点                 
针对不同材质的材料,我司可以提供尽量小的像素尺寸                 
最小的串扰                 
晶条于晶条和阵列与阵列和批次与批次之间的均一性控制                 
反射材料:TiO2/BaSO4/ESR/E60                 
隔断间距: 0.08, 0.1, 0.2, 0.3mm                 
性能测试包括,散点图,能谱图,均一性测试

2.锦虹提供不同材质的阵列来满足各种终端应用                 
我们可以提供包括 CsI(Tl), CsI(Na), CdWO4, LYSO,LSO, YSO, GAGG, BGO,LaBr3 等材质的阵列。根据应用和性能要求,我们可以提供基于TiO2/BaSO4/ESR/E60 的反射材料来做为封装隔断材料。我们的机加工可以实现最小像素的加工,最大限度的满足性能指标和实现最小的串扰和均一性的控制。                  
3.各种材质的性能指标:

性能指标

CsI(Tl)

GAGG

CdWO4

LYSO

LSO

BGO

GOS(Pr/Tb)              
陶瓷

LaBr3

密度(g/cm3)

4.51

6.6

7.9

7.15

7.3~7.4

7.13

7.34

4.9

吸潮性

轻微

    无

极易

相对光输出(%NaI(Tl)) γ-rays

45

158(HL)/ 132(BL)/79(FD)

32

65-75

75

15-20

71/ 118

130-170

衰减时间(ns)

1000

150(HL)/ 90(BL)/48(FD)

14000

38-42

40

300

3000/ 600000

20

余晖@30ms

0.6-0.8%

0.1-0.2%

0.1-0.2%

N/A

N/A

0.1-0.2%

0.1-0.2%

N/A

阵列规格

线阵和二维

线阵和二维

线阵和二维

二维

二维

二维

线阵和

二维

二维

 

4. 阵列组装的加工设计

根据不同的最终用途和客户对不同的考量,锦虹提供多种设计方案和设计来满足和服务于医疗,工业无损探伤和安检市场。

对低能X射线检测的安检行业,我司提供CsI(Tl), GOS, GAGG, CdWO4等闪烁体的线性阵列,我们可以提供P1.575, P2.5等不同间距和不同厚度的线阵。我司提供的线阵对闪烁体的均一性,发光效率等经过严格品控,像素和像素间,阵列与阵列间,批次与批次间的均一性严格的品控。

对于医疗ToF-PET, SPECT, CT,小动物和脑部PET扫描领域,我司可以提供LYSO, CsI(Tl), LSO, LYSO, GAGG, YSO和CsI(Na)阵列来满足不同应用场景和性能要求的需求。 

线阵参考图

二维阵列参考图

4-A: 阵列参数: (A,B,C,D参考值)

A.1 材质: 根据用户的需求

A.2 像素大小: 线阵尺寸 A,B,C& 2D 二维面阵的 A, C 可根据用户需求调整

A.3 中心距: 线阵 A+B & 2D 面阵B, D 根据用户需要调整

A.4 隔断间距: 线阵最小 0.1mm 包含胶层 和面阵0.075mm (包含胶层)

A.5 阵列厚度: 根据需要可以提供订制

A.6 晶体表面处理: 抛光,研磨或者其他

4-B: 典型像素尺寸&数量

材料

典型值

晶条数量

线阵

面阵

线阵

面阵

CsI(Tl)

1.275x2.7

1x1mm

1x16

19x19

GAGG

1.275x2.7

0.5x0.5mm

1X16

8x8

CdWO4

1.275x2.7

3x3mm

1x16

8x8

LYSO/LSO/YSO

N/A

1X1mm

N/A

25x25

BGO

N/A

1x1mm

N/A

13X13

GOS(Tb/Pr) 陶瓷

1.275X2.7

1X1mm

1X16

19X19

4-C: 最小像素尺寸

材料

最小像素尺寸

线阵

二维

CsI(Tl)

0.4mm 中心距

0.5mm 中心距

GAGG

0.4mm 中心距

0.2mm中心距

CdWO4

0.4mm 中心距

1mm中心距

LYSO/LSO/YSO

N/A

0.2mm中心距

BGO

N/A

0.2mm中心距

GOS(Tb/Pr) 陶瓷

0.4mm 中心距

1mm 中心距

5.反射层和胶

反射材料

反射层和胶层厚度

线阵

面阵

TiO2

0.1-1mm

0.1—1mm

BaSO4

0.1mm

0.1-0.5mm

ESR

N/A

0.08mm

E60

N/A

0.075mm

6. 阵列应用

应用场景

CsI(Tl)

GAGG

CdWO4

LYSO

LSO

BGO

GOS(Tb/Pr) 陶瓷

PET, ToF-PET

 

 

  

SPECT

     

CT

   

NDT

    

包检

    

卡车/集装箱

    

伽马相机

     

7. 质量控制      
7-1.阵列能量分辨率测试(Na22)

7-2 散点图

7-3.相对光产测试      
GAGG和LYSO相对光输出测试,和线阵的相对光输出上机测试。

7-4. 均一性      
根据不同品质要求,提供 ±5%,±10%, ±15%等不同均一性要求的产品,我们从晶棒到晶块到晶条到组件提供品质筛选。      
7-5.阵列内部缺陷测

7-6.尺寸公差检测(千分尺和两项测量仪)

信息

如果您对我们的产品感兴趣,请留下您的电子邮件以获得免费的产品报价。谢谢!

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