2.锦虹提供不同材质的阵列来满足各种终端应用
我们可以提供包括 CsI(Tl), CsI(Na), CdWO4, LYSO,LSO, YSO, GAGG, BGO,LaBr3 等材质的阵列。根据应用和性能要求，我们可以提供基于TiO2/BaSO4/ESR/E60 的反射材料来做为封装隔断材料。我们的机加工可以实现最小像素的加工，最大限度的满足性能指标和实现最小的串扰和均一性的控制。
3.各种材质的性能指标：

性能指标	CsI(Tl)	GAGG	CdWO4	LYSO	LSO	BGO	GOS(Pr/Tb) 陶瓷	LaBr3
密度（g/cm3）	4.51	6.6	7.9	7.15	7.3~7.4	7.13	7.34	4.9
吸潮性	轻微	无	无	无	无	无	无	极易
相对光输出(%NaI(Tl)) γ-rays	45	158(HL)/ 132(BL)/79(FD)	32	65-75	75	15-20	71/ 118	130-170
衰减时间(ns)	1000	150(HL)/ 90(BL)/48(FD)	14000	38-42	40	300	3000/ 600000	20
余晖@30ms	0.6-0.8%	0.1-0.2%	0.1-0.2%	N/A	N/A	0.1-0.2%	0.1-0.2%	N/A
阵列规格	线阵和二维	线阵和二维	线阵和二维	二维	二维	二维	线阵和二维	二维

4. 阵列组装的加工设计

根据不同的最终用途和客户对不同的考量，锦虹提供多种设计方案和设计来满足和服务于医疗，工业无损探伤和安检市场。

对低能X射线检测的安检行业，我司提供CsI(Tl), GOS, GAGG, CdWO4等闪烁体的线性阵列，我们可以提供P1.575, P2.5等不同间距和不同厚度的线阵。我司提供的线阵对闪烁体的均一性，发光效率等经过严格品控，像素和像素间，阵列与阵列间，批次与批次间的均一性严格的品控。

对于医疗ToF-PET, SPECT, CT,小动物和脑部PET扫描领域，我司可以提供LYSO, CsI(Tl), LSO, LYSO, GAGG, YSO和CsI(Na)阵列来满足不同应用场景和性能要求的需求。

线阵参考图

二维阵列参考图

4-A: 阵列参数: (A,B,C,D参考值)

A.1 材质: 根据用户的需求

A.2 像素大小: 线阵尺寸 A,B,C& 2D 二维面阵的 A, C 可根据用户需求调整

A.3 中心距: 线阵 A+B & 2D 面阵B, D 根据用户需要调整

A.4 隔断间距: 线阵最小 0.1mm 包含胶层和面阵0.075mm (包含胶层)

A.5 阵列厚度: 根据需要可以提供订制

A.6 晶体表面处理: 抛光，研磨或者其他

4-B: 典型像素尺寸&数量

材料	典型值		晶条数量
材料	线阵	面阵	线阵	面阵
CsI(Tl)	1.275x2.7	1x1mm	1x16	19x19
GAGG	1.275x2.7	0.5x0.5mm	1X16	8x8
CdWO4	1.275x2.7	3x3mm	1x16	8x8
LYSO/LSO/YSO	N/A	1X1mm	N/A	25x25
BGO	N/A	1x1mm	N/A	13X13
GOS(Tb/Pr) 陶瓷	1.275X2.7	1X1mm	1X16	19X19

4-C: 最小像素尺寸

材料	最小像素尺寸
材料	线阵	二维
CsI(Tl)	0.4mm 中心距	0.5mm 中心距
GAGG	0.4mm 中心距	0.2mm中心距
CdWO4	0.4mm 中心距	1mm中心距
LYSO/LSO/YSO	N/A	0.2mm中心距
BGO	N/A	0.2mm中心距
GOS(Tb/Pr) 陶瓷	0.4mm 中心距	1mm 中心距

5.反射层和胶

反射材料	反射层和胶层厚度
反射材料	线阵	面阵
TiO2	0.1-1mm	0.1—1mm
BaSO4	0.1mm	0.1-0.5mm
ESR	N/A	0.08mm
E60	N/A	0.075mm

6. 阵列应用

应用场景	CsI(Tl)	GAGG	CdWO4	LYSO	LSO	BGO	GOS(Tb/Pr) 陶瓷
PET, ToF-PET		√		√	√
SPECT	√	√
CT				√	√	√	√
NDT	√	√	√
包检	√	√	√
卡车/集装箱	√	√	√
伽马相机	√	√

7. 质量控制
7-1.阵列能量分辨率测试(Na22)

7-2 散点图

7-3.相对光产测试
GAGG和LYSO相对光输出测试，和线阵的相对光输出上机测试。

7-4. 均一性
根据不同品质要求，提供 ±5%,±10%, ±15%等不同均一性要求的产品，我们从晶棒到晶块到晶条到组件提供品质筛选。
7-5.阵列内部缺陷测

7-6.尺寸公差检测（千分尺和两项测量仪）